在下降过程中，絮凝体会相互碰撞和凝结。因此，它会不断增加，沉降速度会不断增加，然后沉淀。进入调节池、中和塔、混合池，加速澄清池前处理，进入蒸发系统进行蒸发浓缩、结晶.废水的光伏电池COD及SS含量高，生化效果差，所以必须经过水处理后才能排入自然!含氟工业废水主要来自铝冶炼。磷矿石加工!磷肥生产。氟是钢铁冶炼、煤炭等半导体燃烧过程中的一种排放物.当含氟废水的工业废水排放到自然界中时，植物和动物会受到一定程度的影响。

　　在工业生产过程中，为了使产品达到绝缘、腐蚀和美化的目的，一般在生产过程中会在产品表面添加一层塑料层，通常称为涂层纸（铜纸），在涂层过程中会产生大量的工业废水，面对这些涂层废水应如何处理，以下是一个小组成：涂层工业废水处理工艺！涂层工业废水含有大量的显色剂、粘合剂、碳酸盐和悬浮物.该废水具有悬浮物多、浓度高、可生物降解等特点！因此，工业废水在处理前需要进行预处理。因此，对于涂层工业废水的处理，洪森环保制定了专业的涂层废水处理工艺。

　　主要优点是效率高.工艺简单.环保！能耗低;沉淀法含氟废水氟离子原浓度值为1000~30000mg/L石灰粉法处理后的最终浓度值达到20~30mg/L！温馨提示：在处理过程中，由于沉淀速度慢，适当添加一些氯化钙或其他絮凝剂可以加快悬浮物的沉淀速度，同时pH需要保持在较高的高度来降低氟离子浓度值，选择磷酸盐。镁盐！铝盐等，比单纯性用钙盐除氟效果明显。随着电子产业的快速发展和半导体产业的快速发展，对相关化学品的需求逐年增加，对电子磷酸的需求显著增加。

　　芯片！CPU以及各种集成电路都以硅为原料，在半导体设备的加工过程中会产生大量的硅废水!本文阐述了半导体硅废水的处理方法!半导体含硅废水处理工艺：一级沉淀池，用于沉淀回收部分二氧化硅；一级混凝池用于加入混凝剂去除废水中的胶体硅和溶解硅，并与一级沉淀池连接；二次混凝池用于添加助凝剂和成核剂，利用成核剂反应沉淀物（泥渣）作为接触介质，加快沉淀物生长，提高混凝效果，与一次混凝池连接；二次沉淀池，用于固液分离，沉淀混凝后的絮体，与二次混凝池连接；含硅废水初步沉淀时，可回收部分二氧化硅.

　　目前磷酸净化+蒸发浓度过程要求较高，大部分停留在实验室阶段或由大型磷酸企业实施，只有少数危险废物处理企业应用.提取提纯+蒸发浓缩技术对于含有较多有机酸或杂质的磷酸废液，可选择多级逆流提取工艺.由于磷酸与有机提取的结合力不强，需要投入硫酸，促进磷酸在提取段向有机相转移，后端用低浓度稀磷酸反提取，然后通过100℃通过蒸发浓缩获得75%的磷酸，降低了对设备腐蚀的要求！研究证实，磷酸三丁酯/N235/DT-100萃取系统除杂效果较好，磷酸回收率达到9硝酸去除率820%。

工业废水处理中心

　　随着集成电路规模的逐年增加，磷酸废液的产量也在增加。面板行业和集成电路行业是电子行业的典型代表！电子磷酸广泛应用于其中，实际使用工艺不同，磷酸废液具有许多不同的特点！电子工业中磷酸废液的特点蚀刻或清洗过程中产生的磷酸废液的主要成分仍然是磷酸(含量)≥50%)。硝酸。醋酸混合物，阳离子主要是铝。钼！银等微量金属离子！废液除无色透明外，还有多种显色形式，如灰色悬浮物！浅蓝色澄清等!主要原因是在电子工业中，为了提高磷酸蚀刻或清洗效果，添加了抑制剂！