划刻打标技术：安静的打标技术划刻打标的性能甚至是坚硬的金属，也能直接刻入材料内部，标识（文本、LOGO、特殊字符）是由硬质合金或镶嵌工业钻石的打标针划刻表面形成，打标针划刻出深槽形成连贯的划线。划刻打标技术通常应用于对噪音水平有限定情况。例如，在大管道上打标对点针打标机来说很噪音大，而采用划刻打标机却能无声的完成任务。它能确保高质量的性标识，此外在OCR（光学字符识别）方面也很。划刻打标机也被称之为“拖拽”打标，或者是刻划打标。主要特征深度打标，0.5mm（根据达标材质而定）；打标作业极其安静；打标速度快；读取率高；坚固耐用；需要能源：气源和电源同时接入使用；气动电磁速度中等到高中等可靠性中高（压力，灰尘，油污，湿气）可能导致：-电磁阀堵塞无漏气侦测电磁线圈断路保护，压缩空气质量不良，过电压保护-打标失点-打标漏字符准确性中等高打标深度受压缩空气打标深度稳定压力的波动而变化冲击振幅低高二维点阵码不太适合适合冲击力调整受限制的设定范围大主要靠手动调节（气阀）直接通过编程设定很粗略的调整非常的调整噪音高中等蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。

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