电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统.

　　描电镜分辨率：小于2nm主要特点：1！采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2！出色的电子束偏转控制技术3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（addresssize)可达0.0012nm4。采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0。01mrad5.应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix&Match），图形线宽和图形位移测量等!

　　 关于电子束，作为一家主营产品为电子束光刻EBL的厂家，欣源科技（北京）有限公司在其他未分类这个行业中都享负盛名，在业界中也有一定的地位。

EBL电子束直写

　　==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统！

　　型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ)。欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等！

我们推荐EBL电子束直写

　　包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询！技术参数：1！小线宽：小于10nm（可实现8nm)2.加速电压：5-50kV3!电子束直径：小于2nm4。套刻精度：20nm(mean2σ)5！拼接精度：20nm(mean2σ)6！加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)7!

　　 欣源科技（北京）有限公司欣源科技（北京），我们巍峨耸立于北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331，我们在这里等待您的到来。 也可以通过电话联系： 联系方式:13701223713 联系人:少鹏 致电我们，有意向不到的惊喜!