型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ)。欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等。

　　描电镜分辨率：小于2nm主要特点：1!采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3!采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（addresssize)可达0!0012nm4!采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.01mrad5。应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix&Match），图形线宽和图形位移测量等！

　　包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询。技术参数：1!小线宽：小于10nm（可实现8nm)2！加速电压：5-50kV3.电子束直径：小于2nm4!套刻精度：20nm(mean2σ)5！拼接精度：20nm(mean2σ)6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)7!

正宗CRESTEC电子束

　　 欣源科技（北京）有限公司，位于北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331。公司主营其他未分类行业，如何了解{推广产品}产品信息详情请拔打热线：13701223713少鹏。

CRESTEC电子束

高品质CRESTEC电子束

　　==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一！日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统!

　　电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统！随着“十五”末期阀门市场和行业内部的各种发展变化.阀门股份和私营企业增加.阀门生产水平提高.阀门产量大幅度增长.阀门的市场成套率.成套水平和成套能力都有较大提高.目前.针对阀门市场的现状.对“十一五”期间石油化工阀门的需求.预测如下: “十一五”期间.石油化工领域中乙烯裂解气用高温阀门是80万吨乙烯装置裂解炉出口管线必备阀门.阀门企业应针对这种情况.考虑研制裂解气用阀.此外.大口径高压球阀.大口径输油管线球阀.液化天然气用低温阀门有较大需求.而预计整个通用设备阀门行业“十一五”期间.需求总量为345亿元.此外.根据我国国民经济发展的需求.阀门发展重点为火电.核电.水电.大型石油化工.石油天然气集输管线.煤液化及冶金等重大工程建设配套阀门新产品的开发.在开发以上新产品的同时.应重视新工艺技术的推广应用.如开发高温高压电站和核电站阀门采用锻焊结构时应用真空电子束焊接新工艺和剪切挤压技术,开发长输管线大口径整体球阀应用整体焊接技术.