其他有色金属合金
公司地址:河南省安阳市龙安区彰武街道办事处北彰武村彰化路西段路南1号
企业信息
注册资本:100--200万
注册时间: 2019-02-14
化学用硅生产原料在化学用硅生产上,原料是实现良好作业的先决条件!用石英的岩石作生产化学金属硅的原料,低灰分的含碳材料作还原剂!电炉法生产化学用硅的原料主要有硅石和碳素原料!碳素原料又以石油焦为主,也可以掺用一部分,以增加炉料比电阻!对原料要求具有必要的纯度,有良好的反应能力,以便达到产品的规格;还原剂具有不同的反应能力,以便能与石英石发生充分反应;炉料具有不同的成分,并且既有不同的粒度,以便通过适当的配合,使炉料电炉发生良好的影响!
石油焦是所用于金属硅生产的还原剂中灰分低,含灰分0.17-0。6%,固定碳90-95%,挥发分不大于5%-13%!化学用硅冶炼采用石油焦做还原剂,这是因为它的灰分低,有利于提高产品质量!但由于石油焦电阻率小,反应性差,高温下易石墨化,用量偏大时,导致炉况不好控制,造成炉料不烧结、刺火严重、电耗高、出炉困难。木碳具有很高的比电阻和反应能力,而且杂质含量少,是熔炼工业化学用硅的较为理想的还原剂,但用不同的木材和不同的方法制得的木炭其性质也很不同.
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作为集成电路核心的电子元器件,95%以上是用半导体硅制成的,半导体是当代信息工业的支柱!“信息高速公路”中大量应用的光纤电缆中的光纤,也是以金属硅为原料生产的!美国和欧盟化学用硅的消费量已占金属硅总消费量的一半以上.化学用硅作为高新技术领域和重要基础产业得到广泛应用,其消费量是趋于稳定增长的!在国际市场正常情况下,每吨化学用硅比冶金用硅售价高300-400美元!所以,无论从满足出口和国内需求,还是从提高金属硅企业经济效益,提高产品质量,大力发展化学用硅生产都是必要的!
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15%,Al2O3不大于0.2%,CaO不大于0.1%,杂质总和不大于0!6%。所用硅石在熔炼前必须进行水洗,表面清洁。入炉的硅石要求有一定的粒度。硅石的粒度是冶炼的一个重要工艺因素。硅石适宜粒度受硅石种类、电炉、容量、操作状况以及还原剂的种类和粒度等多种因素影响,要根据具体的冶炼条件来决定!一般情况下,6300KVA三相电炉(1983年大悟硅厂建成),要求硅石粒度在8-100mm,3200KVA三相电炉,要求硅石粒度为8-80mm,而且中间粒度组成的比例要大些!
化学用硅熔炼采用硅石!天然形态的氧化硅或者是以独立的石英矿物存在,或者是以几乎全是由氧化硅积成的岩石—硅石,或硅石形态的砂岩存在!生产化学用硅的含有氧化硅矿物中的杂质和粘着物,在熔炼过程中有的完全被还原,有的部分被还原,有的以化合物形态进入产品硅中或生成熔渣。这样不仅增大能量消耗,降低产品质量,还给熔炼过程造成困难!因此,对化学用硅冶炼所用的含氧化硅矿物的化学组成要求严格!要求SiO2大于99%,Fe2O3小于0!
总个2006年,仅有上海广济硅材料有限公司大悟硅厂在新疆边陲建设成功万吨级金属硅厂晶鑫厂。其他又新建硅厂。化学用硅是指用于有机硅和多晶硅生产的金属硅!从世界范围来看,冶金用硅的消费量多于化学用硅的消费量,但随着科学技术的不断发展,化学用硅用于有机硅和半导体生产等领域不断拓宽,广泛用于生产有机硅单体和聚合物硅油,硅橡胶、硅树脂建筑物防腐、防水剂等,它们具有耐高温、电绝缘、耐辐射、防水等独特性能!用于电气、航空、机械、化工、医药、国防、建筑等部门。
粒度过大时,由于不能和捣炉粘料及反应速度相适应,易使未反应的硅石进入液体硅中,造成渣量增多,出炉困难,硅的回收率降低,能耗增大,甚至造成炉底上涨,影响正常生产。粒度过小,虽能增大还原剂的接触表面,有利于还原反应的进行,但反应过程中生产的气体不能顺利排出,又会减慢反应速度!粒度过小时!带入的杂质又会增多,影响产品质量!生产中一般小于5mm的硅石不宜采用.2碳质还原剂化学硅冶炼所用的主要还原剂有石油焦、烟煤、木炭!
硅溶胶是一种胶体大小的无定形的二氧化硅粒子在水中的稳定体系,由于硅溶胶具有较大的比表面积,较好的渗透性,吸附性和粘结性,较高的耐火绝缘性等优良的性能,在纺织,造纸,钢铁铸造,金属表面处理在,陶瓷,涂料,颜料,胶粘剂等行业上得到了相当广泛的应用。制备硅溶胶的方法主要有三种,分别是离子交换法,酸中和法,电渗析法,硅粉溶解法和胶溶法。用金属硅粉制备硅溶胶的话,工艺简单,成本较低,硅溶胶在质量较好,更适合中小型企业进行生产。
工业硅的分类通常按金属硅成分所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类。按照工业硅中铁、铝、钙的含量,可把工业硅分为553、441、411、421、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。工业硅附加产品有硅微粉,边皮硅,黑皮硅,金属硅渣等。其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰,它广泛应用于耐火材料和混凝土行业。
其实,金属硅粉的制备方法很简单易行,制备原理也很简单易懂,就是将10-30um的粗硅粉经过分散后,用惰性气体送入等离子体弧中,瞬间加热,使粗的硅粉在超高温度下瞬间蒸发成为硅蒸汽,硅蒸汽接着进入冷却区,被冷凝下来,成为纳米级别的金属硅粉。
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