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江门市远紫外消毒门咋样_紫外线灯-广明源光科技股份有限公司

  • 产品名:远紫外消毒门
  • 产品价格:9999.00
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产品说明

  2)通过调节电源输出的电压和频率,提高电源匹配性,产品稳定.3)通过不同气体配比实验,确认了较佳气体配方,提高紫外线光输出。4)实验不同石英玻璃材料,确认了较佳的石英玻璃方案,提高紫外线光输出!5)通过技术升级,提升产品真空度,确保了产品稳定可靠!6)产品启动5秒后可达到90%紫外线辐射照度,具有快速启动性!7)采用专业设计的灯架使灯管牢固地安装在该灯架上,降低灯管跌落的风险,同时灯架的紧固件和夹件可拆卸连接,方便灯管与该灯架的分离。

  因此,研究和开发满足各种工业应用的多种波长的、经济的新型紫外光源就显得刻不容缓!采用介质阻挡放电,驱动的222纳米准分子光源满足上述的要求,是一种应用前景非常广阔的新型紫外光源!关键技术及创意点:关键技术运用新的气体放电方式,产生新的远紫外222纳米波长的准分子灯,用远紫外222纳米波长的光进行消杀!创意点1)产品发射222nm波长紫外线准确,有效性强,光线对人体无害,灯发射的更高剂量的过滤紫外线对人类皮肤或眼睛的健康风险较小,保护环境,无汞产生,对环境无害.

  广明源光科技股份有限公司坐落于广东省鹤山市共和镇新兴路328号,是广东江门鹤山市知名企业,公司业务联系人秀萍:18666913180, 期待您的来电咨询更多关于远紫外杀菌门相关信息!

江门市远紫外消毒门咋样


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  主要用途:222纳米准分子灯:主要用途为空气及物体表面杀菌消毒,硬质物体表面消毒,织物和其他多空物体表面消毒,由于222纳米紫外线对人体无害,可以安全地用于各种场所,可以做到人机共存,使用时人类皮肤或眼睛的健康风险小,完全可使用在如学校,医院,电影院,酒店,机场,餐饭店等人员密集的场所,还可用于养植场所的人工及场所消毒,通过不同的结构设计,达到满意的杀菌消毒效果!技术原理:地球上所有的生命形式的维持都直接或者间接地与阳光辐射有关。

  通过在广微所和中科的第三方测试认证,确认项目研发的222nm准分子产品可在6秒内杀灭99%的载体表面病菌(如大肠杆菌,金黄色葡萄球菌);在空气灭菌测试中,在1m3的试验舱内室测试30min,能够将甲型流感病毒H1N1(A/PR/8/34)、MDCK细胞杀灭,杀灭率大于999%。应用与效益情况主要用途为空气及物体表面杀菌消毒,硬质物体表面消毒,织物和其他多空物体表面消毒,由于222纳米紫外线对人体无害,可以安全地用于各种场所,可以做到人机共存,使用时人类皮肤或眼睛的健康风险较小,完全可使用在如学校,医院,电影院,酒店,机场,餐饭店等人员密集的场所,还可用于养植场所的人工及场所消毒,通过不同的结构设计,达到满意的杀菌消毒效果.

  项目已实现产业化,为国内较高水平,产生显著经济效益和社会效益!特征:•利用远紫外光对人员表面进行杀菌•内置运动传感器,人员靠近开始工作SafeGlo222远紫外杀菌门,采用222nm远紫外技术,使用者进入门停留约6秒钟,即可杀灭多达99%的细菌和病原体!本222纳米准分子灯主要由三个部分组成:1)外接插头线(外壳灯箱)部分:外接插头线(外壳部分)主要用于固定灯、电源及开关,连接线插头等装置,方便安装使用在各种场合!


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  在分析仪器领域里,紫外线的荧光分析应用于矿石,油层、药物、食品、纺织品、公安侦查部门、零件探伤等行业里!上述的大部分应用场合需要高强度的窄带辐射,而传统的低压汞灯能发射185和254nm的窄带辐射,虽然辐射效率很高,但其辐射功率相对较小,光谱都集中在此二波长,不能满足许多实际应用的要求;中、高压汞灯辐射强度大,但光谱却覆盖紫外到可见区域,所需特定波长的紫外效率低下,影响到相应的光化学反应速率!对于紫外激光器来说,它既是窄带辐射,又是高功率密度辐射;但其平均功率有限,光斑尺寸小,价格昂贵,限制了其在工业上的大规模推广应用。

紫外?可以透過玻璃?幔?
不同波长的紫外光线的穿透能力不一样,波长较长(接近可见紫光)的紫外线穿透力较强,能容易穿透普通玻璃,但随波长减小,玻璃对其衰减越大,也就是越难穿透普通玻璃,在波长300纳米以下的紫外线,几乎不能穿透普通玻璃。
使用紫外灯的注意事项有哪些?
使用紫外灯的注意事项如下:(1)紫外灯刚点燃时,输出达不到大值,所以检验工作应等5min后再进行;(2)要尽量减少灯的开关次数,频繁启动会缩短灯的寿命;(3)紫外灯使用后,随使用时间的增长辐射能量下降,应定期测量紫外辐照度;(4)电源电压波动对紫外灯影响很大,因此必须装稳压电源,以保持电源电压稳定;(5)滤光片如有损坏,应立即调换;滤光片上有脏污应及时清除,因为它影响紫外线的透过;(6)避免将磁悬液派到紫外灯泡上,使灯泡炸裂;(7)不要将紫外灯直接对着人的眼睛射照。
紫外曝光机性能指标怎么样?
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。其中,分辨率是对光刻工艺加工可以达到的*细线条精度的一种描述方式,光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光...
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。其中,分辨率是对光刻工艺加工可以达到的*细线条精度的一种描述方式,光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。


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