相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35—45%！气压规定对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力!

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　　注：对于空气洁净度为100级的洁净室内大于等于5微米尘粒的计算应进行多次采样.当其多次出现时，方可认为该测试数值是可靠的，洁净室空气洁净度等级的检验，应以动态条件下测试的尘粒数为依据。洁净厂房设计必须贯彻执行国家的有关方针政策，做到技术、经济合理、安全适用、确保质量，符合节约能源和环境保护的要求。本规范适用于新建和改建、扩建的洁净厂房设计，但不适用于以细菌为控制对象的生物洁净室.本规范有关防火和疏散、消防设施章节的规定，不适用于建筑高度超过24米的高层洁净厂房和地下洁净厂房的设计!

　　压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量!所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力!洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明!对于乱流洁净室由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，不过对室内气流速度也有如下要求；送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。

　　在垂直流系统中，气流是从吊顶流向地面!对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合，就使用单向气流!以前称这类洁净室为“层流”洁净室.单向流和层流的名称均说明了其气流的状况：气流以一个方向流动（或是垂直的或是水平的），并以一般是0。3米/秒至0。5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的均速流过整个空间.由满布洁净室吊顶的过滤器向室内送风.气流有如一个空气活塞，向下流经室内，带走污染物，然后从地面排出!

　　在利用原有建筑进行洁净技术改造时，洁净厂房设计必须根据生产工艺要求，因地制宜、区别对待，充分利用已有的技术设施!洁净厂房设计应为施工安装、维护管理、测试和安全运行创造必要的条件！洁净厂房设计除应按本规范执行外，尚应符合现行的标准、规范的有关要求。洁净厂房设计必须贯彻执行国家的有关方针政策，做到技术、经济合理、安全适用、确保质量，符合节约能源和环境保护的要求.本规范适用于新建和改建、扩建的洁净厂房设计，但不适用于以细菌为控制对象的生物洁净室.