NIKON L200金相显微镜 ECLIPSE L200 反射*型 ECLIPSE L200D 透反射两用型 使用世界水平的尼康CFI60光学系统，对光路中的耀斑有很好的抑制，可以实现很高的图象对比度。 可以观察的硅片直径为200mm，观察倍率15X～3000X（视目镜和物镜的组合而定）； 物镜齐焦距离为60mm，可以兼顾高数值孔径和长工作距离两方面的要求； 主机刚性高，具有很好的抗振性能，具有防尘、防污染、防静电功能； 光亮调节、光阑调节、物镜转换等操作都集中在前面，使用方便，即使长期操作也不易产生疲劳； 可以与尼康的硅片输送机配合使用，提高硅片检测效率。 ＜微分干涉套＞ 全体物镜共用物镜转换器内的诺曼斯基棱镜，结构简单，成象质量高。 L200 L200D 观察性能的提升 扩大检查范围的反射荧光观察（L200ND）新 反射照明观察，除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外，更可进行UV（365nm)激发的反射荧光观察。 对于半导体感光薄膜的残渣、有机EL显示面板的观察发挥了很大的威力。 使用物镜：CFI LU PLAN FLUOR 10X 硅片的明场观察 暗场观察 微分干涉观察 反射荧光观察 反射荧光观察用的电动水银光纤光源[INTENSILIGHT](L200ND) 光源采用了预定心电动水银光纤光源[INTENSILIGHT]。更换灯泡时不用进行灯丝调心和对焦。 灯箱可与主机分离设置，以降低光源发热对显微镜的影响。6段式的调光机能和快门机能，实现了良好的操作性。 约2000小时超长使用寿命的灯泡大幅降低了使用成本。 操作性能提升、理环保 比12V100W更亮的高亮度12V50W卤素灯 新 采用了12V50W的[LV-LH50PC预定心灯箱]，与12V100W相比，耗电量削减了约一半，又可达到与其同等甚至更亮的亮度。 灯丝位置经过优化设计，且灯箱里有反光镜，使照明视场均匀，并提高照明效率。特别是用到50倍以的高倍物镜时，能得到比12V100W亮约20%的观察图象。 更环保，也能防止因热量而造成的焦面偏移的干扰。 抗污染的防静电涂层 新 主机、载物台、镜筒均涂有消静电涂层。为了提高抗污染能力，防止工件因静电感应而受损，从而提高成品率。 可调节到位置进行观察的正立调倾式三目镜筒 视场数25的超大视场，可任意设定0～30°的观察角度。根据使用者体型和观察姿势的不同，可将三目镜筒调节到位置松随意的进行观察。 载物台微调手轮无需移动工件 不用移动工件，载物台微调手柄位置固定于显微镜主机操作部旁。 所有的操作部都尽在手边，移动载物台、对焦等显微操作，不用抬手，只需动动手腕就可轻松执行。 耐久性比以前高3倍的电动通用物镜转换器 新 多可以安装到6个物镜。和偏心较小的物镜结合使用，用高倍物镜观察时切换倍率也很少会出现图象闪动现象。 从低倍到高倍的自由切换更稳定。考虑到使用者，在旋转物镜转换器时会自动切断照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。 对焦目标 对焦目标可移入光路，这一特性对于裸硅片之类的低对比度工件的正确对焦成为方便。 ? 显微镜操作部位集中于底座前部 操作手轮、按键等，都集中于底座前部，更便于使用。一看就能快捷*的进行显微操作。大大减轻了长时间观察的疲劳感。 获取图象，提升与显微镜用数码相机的联动力 实现了从观察到图象拍摄、分析的整体化 •尼康开发提供了便于使用的显微镜、数码相机和软件一体化的高机能设备系统。 •支持从设定观察条件，到数码拍摄→处理→分析的整个流程。 用于LSI检查显微镜 ECLIPSE L200N Wafer Loader NWL200系列 与ECLIPSE L200N相结合，对应的硅片检查需要。 运用独立的尼康高端技术，稳定传输*型100um硅片。